关于我们
综合新闻
研究方向
平台服务
专利及产业化
学习园地
集成电路创新技术
光子器件与集成技术
计算光刻中心
MEMS器件及系统
堆叠纳米片全环绕栅(GAA)晶体管具有极佳的栅控特性、更高的驱动性能以及更多的电路设计灵活性,是主流集成电路制造继FinFET之后的核心晶体管结构。目前,三星电子(Samsung)、台积电(TSMC)与英特尔(Intel)等半导体巨头已经或者即将在3纳米及以下技术节点采用该器件进行... 详细 >>
业内热点
招生招聘
学位论文
高低温电学测试探针台
傅里叶红外光谱/多...
扫描电镜/原子力显...
键合对准及检测设备
晶圆级共晶键合设备
晶圆级扩散键合设备
化学机械平坦化设备
单片自动清洗设备
槽式自动清洗机
栅氧/多晶/退火卧...
RTP快速退火设备/...
超低能离子注入设...
原子层薄膜沉积设备
III-V MOCVD设备
SixGe1-x减压外延设备
金属蒸发镀膜设备
金属PVD溅射设备
介质CVD淀积设备
VHF/XeF 释放设备
深硅刻蚀机
介质/金属刻蚀机
接触式双面曝光机/...
20nm 电子束直写设...
0.18mm扫描式光刻...