计算光刻中心

教育背景

1998毕业于德国马普固体所/德国斯图加特大学，获理学博士学位

1992毕业于中国科学院电子学研究所，获工学硕士学位

工作简历

2013年 – 至今： 中国科学院微电子研究所研究员、博士生导师；国家科技重大专项“300mm晶圆匀胶显影设备”首席科学家（沈阳芯源微电子设备公司）。

2009年 – 2013年： 美国格罗方德纽约研发中心光刻经理。

2007年 – 2008年： 美国安智公司新泽西研发中心，高级科学家(Senior Staff Scientist)。

2001年 – 2007年： 德国英飞凌公司美国纽约研发中心，高级工程师(Senior/Staff Engineer)。

1998年 – 2001年： 美国能源部橡树岭国家实验室，博士后

Advanced processes for 193nm immersion lithography， SPIE Press 2009