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当前位置

教育背景
2004.9-2008.7 合肥工业大学应用物理专业本科
2008.9-2014.7 北京理工大学光学工程专业博士
工作简历
2014.9-2017.7 中国科学院微电子研究所助理研究员
2017.7-至今中国科学院微电子研究所副研究员

1. Lisong Dong, et al. Mitigating the influence of wafer topography on implantation process in optical lithography [J]. Optics Letter, 2017, 42(15): 2934-2937.
2. Lisong Dong, et al. Optimization of resist parameters to improve the profile and process window of the contact pattern in advanced node [J]. J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2016, 15(4): 043509.
3. Lisong Dong, et al. Optimize the focus monitor mark in immersion lithography according to illumination type [J]. J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2017, 16(3): 033505.

1. 董立松, 韦亚一, 宋之洋. 发明专利名称: 一种焦面位置测试掩膜版及确定焦面位置的方法及装置. 中国, 201510474182.0.
2. 董立松, 宋之洋, 韦亚一. 发明专利名称: 一种掩膜图形的优化方法、最佳焦平面位置测量方法及系统. 中国, 201610342206.1.