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成果展示

八室科研成果闪耀亮相IC CHINA 2010

  10月21日至23日,一年一度的中国国际半导体博览会暨高峰论坛(IC CHINA 2010)在苏州国际博览中心隆重举行。本届展会专门开辟了02专项成果展区,八室由夏洋主任亲自带队,携三台先进设备参展,在向业界展示微电子所在微电子设备领域的雄厚科研实力的同时,也充分显示了我们以高质量完成02专项科研任务的坚定信心。

  在本届展会上,八室的展位处于02专项展区的入口位置,与东京精密、华润微电子、爱发科等业界知名企业毗邻,备受关注。展会期间,八室集中展示了KE-320型高密度等离子体刻蚀机、KD-200A型原子层沉积系统、动态薄层清洗设备等最新的科研成果,新颖别致的展台、丰富多样的展品吸引了大量观众驻足参观。工业和信息化部副部长杨学山、中国半导体行业协会理事长江上舟、微电子所所长叶甜春等领导和专家先后莅临八室展位参观指导。夏洋主任和刘训春研究员向有关领导同志详细汇报了八室在微电子设备研发领域取得的成就和02专项项目的完成情况,得到了一致好评。杨学山副部长在听取汇报后,对微电子所在这一领域取得的丰硕成果表示赞赏,并鼓励大家要再接再厉,为推动我国在微电子设备制造领域的不断发展再立新功。叶甜春所长在参观了八室展位并听取汇报后,对八室的工作给予了充分肯定。

  在展会期间,还同期举办了以“合作创新、整合优化、持续发展”为主题的高峰论坛,为广大业内人士搭建了相互交流、相互学习、相互合作的良好平台。本届展会由国家工业和信息化部、科技部、江苏省人民政府作为指导单位,中国半导体行业协会、中国国际贸易促进委员会电子信息行业分会、苏州市人民政府主办,共计240余家厂商携产品参与了展示活动。

八室展位

夏洋主任向工信部杨学山副部长(右)介绍参展设备的情况

夏洋主任(左)、刘训春研究员(右一)向叶甜春所长(中)

介绍KE-320型高密度等离子体刻蚀机

  02项目专家与微电子所参会人员合影留念