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作者信息:EDA中心 曹鹤
图片描述:本作品显示的是28纳米高k金属栅工艺测试芯片经过化学机械研磨后的表面形貌图,图中金黄色竖线是设计图形(凸出区域),暗红色竖线是介质层(凹槽区域)。
成像设备:原子力显微镜
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