10月14日，微电子所团委、青促会联合举办“岗位大练兵暨第三届青年技术能手大赛”系列报告会，邀请微电子所研究员、韦亚一作了题为《193nm波长浸没式光刻技术》的学术报告。微电子所职工、学生共30余人参加了报告会。 

　　韦亚一在报告中介绍了光刻技术的发展历程，深入讲解了193nm波长下的浸没式曝光技术，包括材料、缺陷控制和分辨率增强技术等，分析了光刻技术当前面临的发展问题。与会人员就相关技术问题与韦亚一进行了探讨和交流。 

　　韦亚一长期从事半导体光刻领域设备、材料和制程研发，主持 “300mm晶圆匀胶显影设备和光刻工艺研发”等多项国家科技重大专项项目，发表专业文献60余篇。 

报告会现场