奥地利EVG集团(半导体、微电子机械系统(MEMS)和纳米技术应用的晶圆键合和光刻设备供应商)和以色列Teramount of Jerusalem公司(为数据中心、高级计算、传感器和其他数据通信和电信应用提供将光纤连接到硅芯片的可扩展解决方案)正在合作实施晶圆级光学以解决硅光子学的一个主要障碍,即光纤芯片封装。此次合作将利用EVG的纳米压印光刻(nanoimprint lithography technology)技术以及Teramount的PhotonicPlug技术。
经过此次合作,将利用EVG公司的纳米压印光刻技术对用于硅光子芯片的标准CMOS晶圆进行后处理,从而制造Teramount公司特有的自对准光学系统的反射镜和透镜等光学元件。这使得能够灵活地从芯片中提取光束,并容易连接到大量光纤。此外,它还实现了晶圆级光学检测能力,以增强硅光子学晶圆制造。
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