RENA Technologies推出Inception单晶圆平台，将其从湿法处理平台产品组合中扩展出来，该平台在研发到生产过程中起过渡作用，并能够处理所有半导体湿法工艺，例如清洁、蚀刻、剥离并干燥。

　　第一个Inception产品已经交付给主要的化合物半导体客户，该客户将在酸洗工艺中利用其功能。

　　RENA Technologies NA的首席执行官Ed Jean说：“如果您只有一把锤子，那么一切就像钉子一样。批量浸入、喷涂和单晶圆工具在湿法工艺领域都占有一席之地。但是，大多数设备供应商都提供了一种万能的方法，试图将您的应用程序“锤碎”到他们提供的唯一平台中。通过将Inception单晶圆工具添加到RENA的产品阵容中，RENA为任何湿法清洁，蚀刻或剥离应用提供了合适的平台。”

　　RENA Technologies NA Spray产品经理Heath Phillips说：“ Inception单晶片平台为的客户提供了测试的一致性，以开发记录过程并使流程自动化。”

　　Inception单晶片工具的功能包括：

　　FEoL线前端（酸）和BEoL线后端（溶剂）加工应用；

　　自动晶圆处理（手动加载可选）；

　　直径最大为200mm的晶片和最大宽度为7 x 7的掩模；

　　带有独立化学生产线的双移动喷雾臂；

　　用于DI和N2的固定式底部喷嘴；

　　蚀刻均匀性超过批处理系统；

　　标准双槽设计，提供多步处理（4槽可选）；

　　单或双负载端口；

　　公用事业消耗低；

　　占地面积小，36英寸宽x 83英寸高x 76英寸长；

　　高度灵活的软件可实现快速的流程开发。