论文题目: 增强型InGaP/AlGaAs/InGaAs PHEMT栅退火工艺
作者: 黎明,张海英,徐静波,李潇,刘亮,付晓君
刊物名称: 《半导体学报》
: 2008
: 29
: 8
: 1487-1490
联系作者: 黎明
摘要:
针对InGaP/AlGaAs/InGaAs PHEMT器件,进行了Ti/Pt/Au和Pt/Ti/Pt/Au两种栅金属结构的退火实验,通过实验研究比较,得到了更适用于增强型器件的退火工艺,利用Ti/Pt/Au结构,在320℃退火40min,使器件阈值电压正向移动大约200mV,从而成功制作了高成品率的稳定一致的增强型器件,保证了增强型器件阈值电压在零以上.