基于严格的矢量耦合波理论，优化设计了用于13.4nm软X射线干涉光刻的透射型双光栅掩模版. 采用电子束光刻技术，在国内首次成功制作了周期为100nm的大面积金属型透射光栅.光栅面积为1.5mm ×1.5mm，Cr浮雕厚度为50nm，Gap/period为0.6，衬底Si3N4厚度为100nm. 此光栅将用于上海光源软X射线干涉光刻实验站.利用其1级衍射光和2级衍射光将可以经济高效地制作周期为50和25nm的大面积周期结构.最后，测量了该光栅对波长为13.4nm 同步辐射光的衍射光强度，并且推算得出该光栅的1级和2级衍射效率分别为4.41%和0.49%，与理论设计值比较符合.实验结果与理论模拟结果的对比表明该光栅侧壁陡直，Gap/period的控制也与设计值符合.