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论文题目: | Study on characteristics of thermally stable HfLaON gate dielectric with TaN metal gate |
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作者: | Qiuxia Xu, Gaobo Xu, Wenwu Wang, Dapeng Chen, Shali Shi, Zhengsheng Han, and Tianchun Ye |
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刊物名称: | Appl. Phys. Lett. |
年: | 2008 |
卷: | 93 |
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页: | 252903 |
联系作者: | Qiuxia Xu |
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科研产出