论文编号:
第一作者所在部门:
论文题目: Study on characteristics of thermally stable HfLaON gate dielectric with TaN metal gate
论文题目英文:
作者: Qiuxia Xu, Gaobo Xu, Wenwu Wang, Dapeng Chen, Shali Shi, Zhengsheng Han, and Tianchun Ye
论文出处:
刊物名称: Appl. Phys. Lett.
: 2008
: 93
:
: 252903
联系作者: Qiuxia Xu
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