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论文题目: | Fabrication and charging characteristics of MOS capacitor structure with metal nanocrystals embedded in gate oxide |
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作者: | Weihua Guan, Shibing Long, Ming Liu1, Zhigang Li, Yuan Hu and Qi Liu |
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刊物名称: | J. Phys. D: Appl. Phys. |
年: | 2007 |
卷: | 40 |
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页: | 2754-2758 |
联系作者: | Weihua Guan |
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科研产出