| 论文编号: | O434.1 |
| 第一作者所在部门: | 纳米加工与新器件集成技术研究室(三室) |
| 论文题目: | 带支撑结构的大高宽比硬X射线波带片制作 |
| 论文题目英文: | |
| 作者: | 马杰;曹磊峰; 谢常青;吴璇;李海亮;朱效立;刘明;陈宝钦;叶甜春 |
| 论文出处: | |
| 刊物名称: | 光电工程 |
| 年: | 2009 |
| 卷: | 36 |
| 期: | 10 |
| 页: | 5，30-34 |
| 联系作者: | |
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| 摘要: | 对利用X射线光刻制作大高宽比硬x射线波带片的设计和制作工艺进行了研究。采用电子束光刻制作X射线光刻掩模，并利用X射线光刻制作最终的硬x射线波带片。采用对光刻胶结构加入支撑点的方法，大大提高了X射线光刻制作硬x射线波带片的高宽比。对所加入支撑点的布置策略进行了优化，使得支撑点所占的面积比例减小。所制作的波带片最外环宽度为200nm，厚度为2.8μm，具有优良的结构质量，预期可用于10keV到25keV波段，并具有优于250nm的成像分辨率。[著者文摘] |
| 英文摘要: | |
| 外单位作者单位: | |
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