论文编号: 172511O120100263
第一作者所在部门: 十室一组
论文题目: HfSiON高K介质在HF基溶液中的湿法腐蚀特性研究
论文题目英文:
作者: 李永亮
论文出处: EI收录
刊物名称: Journal of Semiconductors
: 2010
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收录类别:
影响因子: 0.3
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