论文编号: 1725110120150016
第一作者所在部门: 研究生5,八室一组
论文题目: A method to restrain the charging effect on insulating substrate in high energy electron beam lithography
论文题目英文:
作者: 于明岩
论文出处:
刊物名称: 半导体学报
: 2014
: 35
: 12
: 1
联系作者: 于明岩
收录类别:
影响因子: 0.2723
摘要:
英文摘要:
外单位作者单位:
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