| 论文编号: | 1725110120140293 |
| 第一作者所在部门: | 研究生5,三室 |
| 论文题目: | Low temperature atomic layer deposited HfO2 for high performance charge trapping flash memory application |
| 作者: | 陈国星 |
| 刊物名称: | semiconductor science and technology |
| 年: | 2014 |
| 卷: | 29 |
| 期: | 4 |
| 页: | 1 |
| 联系作者: | 陈国星 |
| 影响因子: | 2.206 |
| 论文编号: | 1725110120140293 |
| 第一作者所在部门: | 研究生5,三室 |
| 论文题目: | Low temperature atomic layer deposited HfO2 for high performance charge trapping flash memory application |
| 作者: | 陈国星 |
| 刊物名称: | semiconductor science and technology |
| 年: | 2014 |
| 卷: | 29 |
| 期: | 4 |
| 页: | 1 |
| 联系作者: | 陈国星 |
| 影响因子: | 2.206 |
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