论文编号: | 1725110120140234 |
第一作者所在部门: | 十室一组 |
论文题目: | Mitigation of reverse short channel effect with multilayer TiN Ti TiN metal gates in gate last Pmosfets |
论文题目英文: | |
作者: | 赵利川 |
论文出处: | |
刊物名称: | IEEE Electron device letters |
年: | 2014 |
卷: | 35 |
期: | 8 |
页: | 811 |
联系作者: | 赵利川 |
收录类别: | |
影响因子: | 3.023 |
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英文摘要: | |
外单位作者单位: | |
备注: | |
科研产出