| 论文编号: | 1725110120140215 |
| 第一作者所在部门: | 十室一组 |
| 论文题目: | Impacts of Back Gate Bias Stressing on Device Characteristics for Extremely Thin SOI (ETSOI) MOSFETs |
| 论文题目英文: | |
| 作者: | 唐兆云 |
| 论文出处: | |
| 刊物名称: | IEEE Electron device letters |
| 年: | 2014 |
| 卷: | 35 |
| 期: | 3 |
| 页: | 303 |
| 联系作者: | 唐兆云 |
| 收录类别: | |
| 影响因子: | 3.023 |
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| 英文摘要: | |
| 外单位作者单位: | |
| 备注: | |
科研产出