| 论文编号: | 1725110120140214 |
| 第一作者所在部门: | 十室一组 |
| 论文题目: | SiGe Selective Epitaxial Growth Process for 22 nm Node CMOS and Beyond |
| 作者: | 王桂磊 |
| 刊物名称: | The Electrochemical Society |
| 年: | 2014 |
| 卷: | 103 |
| 期: | 1 |
| 页: | 1692 |
| 联系作者: | 王桂磊 |
| 影响因子: | 0.5 |
| 论文编号: | 1725110120140214 |
| 第一作者所在部门: | 十室一组 |
| 论文题目: | SiGe Selective Epitaxial Growth Process for 22 nm Node CMOS and Beyond |
| 作者: | 王桂磊 |
| 刊物名称: | The Electrochemical Society |
| 年: | 2014 |
| 卷: | 103 |
| 期: | 1 |
| 页: | 1692 |
| 联系作者: | 王桂磊 |
| 影响因子: | 0.5 |
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