论文编号: | 1725110120140083 |
第一作者所在部门: | 四室一组 |
论文题目: | A COMPARATIVE STUDY OF Ge MOSFET USING Al2O3/GeOX/Ge STACKS –FORMING HIGH QUALITY GeOX INTERFACE LAYER TO BOOST DEVICE PERFORMANCE |
论文题目英文: | |
作者: | 杨旭 |
论文出处: | |
刊物名称: | Proceedings of ICSICT2014 |
年: | 2014 |
卷: | |
期: | 2014 |
页: | 881 |
联系作者: | 杨旭 |
收录类别: | |
影响因子: | 0 |
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科研产出