论文编号: 1725110120140083
第一作者所在部门: 四室一组
论文题目: A COMPARATIVE STUDY OF Ge MOSFET USING Al2O3/GeOX/Ge STACKS –FORMING HIGH QUALITY GeOX INTERFACE LAYER TO BOOST DEVICE PERFORMANCE
论文题目英文:
作者: 杨旭
论文出处:
刊物名称: Proceedings of ICSICT2014
: 2014
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: 2014
: 881
联系作者: 杨旭
收录类别:
影响因子: 0
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