论文编号: | 1725110120150218 |
第一作者所在部门: | 先导中心 |
论文题目: | Overshoot Stress on Ultra-Thin HfO2?High-k ?Layer and Its Impact on Lifetime Extraction |
论文题目英文: | |
作者: | 万光星 |
论文出处: | |
刊物名称: | IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS |
年: | 2015 |
卷: | 36 |
期: | 12 |
页: | 1267-1270 |
联系作者: | |
收录类别: | |
影响因子: | 2.754 |
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外单位作者单位: | |
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科研产出