Thickness optimization for lithography process on different silicon substrate--中国科学院微电子研究所

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论文编号:	1725110120150198
第一作者所在部门:	先导中心
论文题目:	Thickness optimization for lithography process on different silicon substrate
论文题目英文:
作者:	苏晓菁
论文出处:
刊物名称:	Proc. of SPIE
年:	2015
卷:	94
期:	25
页:	1-14
联系作者:	韦亚一
收录类别:
影响因子:	0
摘要:
英文摘要:
外单位作者单位:
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