| 论文编号: | 1725110120150197 |
| 第一作者所在部门: | 先导中心 |
| 论文题目: | Atomic Layer Deposited TiAlC Film as Metal Gate for 22 nm Node CMOS Technology and Beyond |
| 作者: | 项金娟 |
| 刊物名称: | ALD 2015 |
| 年: | 2015 |
| 卷: | 4 |
| 期: | 4 |
| 页: | 1-10 |
| 联系作者: | 赵超 |
| 影响因子: | 0 |
| 论文编号: | 1725110120150197 |
| 第一作者所在部门: | 先导中心 |
| 论文题目: | Atomic Layer Deposited TiAlC Film as Metal Gate for 22 nm Node CMOS Technology and Beyond |
| 作者: | 项金娟 |
| 刊物名称: | ALD 2015 |
| 年: | 2015 |
| 卷: | 4 |
| 期: | 4 |
| 页: | 1-10 |
| 联系作者: | 赵超 |
| 影响因子: | 0 |
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