论文编号: 1725110120150184
第一作者所在部门: 高频高压中心
论文题目: Robust SiNx/AlGaN Interface in GaN HEMTs Passivated by Thick LPCVD-Grown SiNx Layer
论文题目英文:
作者:
论文出处:
刊物名称: IEEE Electron Device Letter
: 2015
: 36
: 7
: 666-668
联系作者: 王鑫华,魏珂,刘新宇,赵超,李俊峰,蒋浩杰,庞磊,罗卫军,袁婷婷,刘果果,陈晓娟,黄森,郑英奎
收录类别:
影响因子: 2.754
摘要:
英文摘要:
外单位作者单位:
备注: