论文编号: 1725110120160338
第一作者所在部门:
论文题目: Ultra-thin 20 nm-PECVD-Si3N4 surface passivation in T-shaped gate InAlAs/InGaAs InP-based HEMTs and its impact on DC and RF performance
论文题目英文:
作者: 丁芃
论文出处:
刊物名称: SOLID-STATE ELECTRONICS
: 2016
:
: 123
: 1
联系作者: 金智
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