论文编号: 1725110120160254
第一作者所在部门:
论文题目: Investigation of tunneling layer and inter-gate-dielectric engineered TaN floating gate memory
论文题目英文:
作者: 姜丹丹
论文出处:
刊物名称: Integrated Ferroelectrics
: 2016
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: 169
: 146
联系作者: 霍宗亮
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