论文编号: | 1725110120160254 |
第一作者所在部门: | |
论文题目: | Investigation of tunneling layer and inter-gate-dielectric engineered TaN floating gate memory |
论文题目英文: | |
作者: | 姜丹丹 |
论文出处: | |
刊物名称: | Integrated Ferroelectrics |
年: | 2016 |
卷: | |
期: | 169 |
页: | 146 |
联系作者: | 霍宗亮 |
收录类别: | |
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科研产出