| 论文编号: | 1725110120160236 |
| 第一作者所在部门: | |
| 论文题目: | Understanding the role of TiN barrier layer on electrical performance of MOS device with ALD-TiN/ALD-TiAlC metal gate stacks |
| 论文题目英文: | |
| 作者: | 项金娟 |
| 论文出处: | |
| 刊物名称: | ECS Journal of Solid State Science and Technology |
| 年: | 2016 |
| 卷: | 5 |
| 期: | 6 |
| 页: | 327 |
| 联系作者: | 赵超 |
| 收录类别: | |
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