论文编号: 1725110120160201
第一作者所在部门:
论文题目: FOI FinFET with Ultra-low Parasitic Resistance Enabled by Fully Metallic Source and Drain Formation on Isolated Bulk-Fin
论文题目英文:
作者: 张青竹
论文出处:
刊物名称: IEDM
: 2016
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联系作者: 殷华湘
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