论文编号: 1725110120160168
第一作者所在部门:
论文题目: Effects of combined NO and forming gas annealing on interfacial properties and oxide reliability of 4H-SiC MOS structures
论文题目英文:
作者: 彭朝阳
论文出处:
刊物名称: Microelectronics Reliability
: 2016
:
: 58
: 192
联系作者: 申华军,刘可安,白云
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