论文编号: | 1725110120160168 |
第一作者所在部门: | |
论文题目: | Effects of combined NO and forming gas annealing on interfacial properties and oxide reliability of 4H-SiC MOS structures |
论文题目英文: | |
作者: | 彭朝阳 |
论文出处: | |
刊物名称: | Microelectronics Reliability |
年: | 2016 |
卷: | |
期: | 58 |
页: | 192 |
联系作者: | 申华军,刘可安,白云 |
收录类别: | |
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科研产出