Layout Decomposition Algorithms for Double Patterning Lithography--中国科学院微电子研究所

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论文编号:	1725110120160157
第一作者所在部门:
论文题目:	Layout Decomposition Algorithms for Double Patterning Lithography
论文题目英文:
作者:	张学连
论文出处:
刊物名称:	ICSICT-2016
年:	2016
卷:
期:	0
页:	s14-5
联系作者:	吴玉平
收录类别:
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摘要:
英文摘要:
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