论文编号: 1725110120160120
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论文题目: 00-nm Gate-Length GaAs mHEMTs using Si-doped InP/InAlAs schottky layers and atomic layer deposition Al2O3 Passivation with fmax of 388.2 GHz
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刊物名称: IEEE
: 2016
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联系作者: 孙兵,刘洪刚
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