| 论文编号: | 1725110120160120 | 
| 第一作者所在部门: | |
| 论文题目: | 00-nm Gate-Length GaAs mHEMTs using Si-doped InP/InAlAs schottky layers and atomic layer deposition Al2O3 Passivation with fmax of 388.2 GHz | 
| 论文题目英文: | |
| 作者: | |
| 论文出处: | |
| 刊物名称: | IEEE | 
| 年: | 2016 | 
| 卷: | |
| 期: | 1 | 
| 页: | 1 | 
| 联系作者: | 孙兵,刘洪刚 | 
| 收录类别: | |
| 影响因子: | |
| 摘要: | |
| 英文摘要: | |
| 外单位作者单位: | |
| 备注: | |
科研产出