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  • 姓名： 傅剑宇
  • 性别： 女
  • 职称： 副研究员
  • 职务： 
  • 学历： 博士
  • 电话： 010-82995932
  • 传真： 
  • 电子邮件： fujianyu@ime.ac.cn
  • 所属部门： 集成电路先导工艺研发中心
  • 通讯地址： 北京市朝阳区北土城西路3号

    简　　历：

  • 教育背景

    2005/9 - 2010/7，中国科学院微电子研究所，微电子与固体电子学，博士

    2001/9 - 2005/7，四川大学，微电子学，学士

    工作简历

    2014/5 - 至今，中国科学院微电子研究所，智能感知中心，副研究员

    2011/11 - 2014/5，重庆绿色智能技术研究院，电子信息技术研究所，副研究员

    2010/9 - 2011/11，重庆大学，光电工程学院，讲师

    社会任职：

    研究方向：

  • 微机电系统：介质薄膜基础研究、非制冷红外成像芯片研究、太赫兹成像芯片研究等

    承担科研项目情况：

  • 1、国家自然科学基金青年项目，2017/01-2019/12，在研，主持。

    2、国家863项目，2015/3-2018/3，在研，参与。

    3、中国科学院“西部之光”计划西部博士项目，2012/1-2014/12，已结题，主持。

    代表论著：

  • （1）Jianyu Fu*, Haiping Shang, Zhigang Li, Weibing Wang, Dapeng Chen, Thermal annealing effects on the stress stability in silicon dioxide films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition, Microsystem technologies, 2017, 23(7): 2753-2757.

    （2）Jianyu Fu, Haiping Shang*, Haitao Shi, Zhigang Li, Yi Ou, Dapeng Chen, Qingchuan Zhang, Optical sensitivity non-uniformity analysis and optimization of a tilt optical readout focal plane array, Journal of Micromechanics and Microengineering, 2016, 26: 025001.

    （3）Jianyu Fu, Haiping Shang*, Haitao Shi, Zhigang Li, Yi Ou, Dapeng Chen, Qingchuan Zhang, Design optimization and performance analysis of deformed optical readout focal plane array, Journal of Micromechanics and Microengineering, 2015, 25: 065012.

    （4）Haiping Shang, Jianyu Fu*, Changqing Xie*, Zhigang Li, Dapeng Chen, Improving stress stability in low-pressure chemical vapor deposited silicon dioxide films by ion implantation, Thin Solid Films, 2016, 598: 103-108.

    专利申请：

  • （1）傅剑宇，吴迪，周博天，袁野，严胡勇，丙酮气敏传感器及其制备方法，2017.4，中国，ZL201410621459.3

    （2）傅剑宇，吴迪，王国胤，加速度开关及其控制方法，2016.8，中国，ZL201310162834.8

    （3）傅剑宇，温志渝，陈李，李东玲，尚正国，一种微机械加速度开关，2013.12，中国，ZL201110188259.X

    （4）傅剑宇，陈大鹏，景玉鹏，欧毅，叶甜春，一种制作纳米级图形的方法，2011.12，中国，ZL 200710177797.2

    （5）傅剑宇，陈大鹏，景玉鹏，欧毅，叶甜春，基于场致电子发射原理的微尖端阵列器件及其制作方法，2010.9，中国，ZL 200710177795.3

    获奖及荣誉：

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