教育背景
2012.09-2017.01 天津大学仪器科学与技术专业,博士
2021.05-今 中国科学院微电子研究所,副研究员
2018.05-2021.04 天津大学精密仪器与光电子工程学院,博士后
2017.06-2018.4 成都工业学院机械工程学院,讲师
集成电路光学测量技术及精密仪器
1.国家重点研发计划课题 “基于光谱反射高深宽比结构深度测量系统及关键技术”,技术负责人;
2.国家重点研发计划课题 “高空间分辨率超薄膜层结构测量技术与仪器模组开发”,技术负责人;
3.国家重大科研仪器研制项目“二维材料的有机分子精准界面调控与器件集成一体化系统”,骨干;
4.教育部全国优秀博士学位论文专项“基于反射差分术和全穆勒矩阵偏振术的微区光学特性测量方法与系统”,骨干;
发表SCI论文13篇,一作/通讯8篇。
1. S Huo, H Wang, C Hu*, C Yao, W Shen, X Hu, and X Hu. Measuring the Multilayer Silicon based Microstructure Using Differential Reflectance Spectroscopy. Optics Express, 2021, Vol. 29 No. 3.
2. C Yao, S Huo*, W Shen, Z Sun, X Hu, X Hu and C Hu*. Assessing the quality of polished brittle optical crystal using quasi-Brewster angle technique. Precision Engineering, 2021, Vol. 72, P184-191.
3. Chunguang Hu, Hao Wang, Yongtao Shen, Shuchun Huo*, Wanfu Shen, Xiaodong Hu and Xiaotang Hu, Imaging layer thickness of large-area graphene using reference-aided optical differential reflection technique. Optics Letters, 2020, Vol. 45 No. 15.
4. Chunguang Hu, Hao Wang, Shuchun Huo*, Wanfu Shen, and Xiaotang Hu, Rapid reflectance difference microscopy based on liquid crystal variable retarder, Journal of Vacuum Science & Technology B 37, 050604 (2019).
5. S Huo, C Hu, W Shen, et al. Normal-incidence reflectance difference spectroscopy based on a liquid crystal variable retarder[J], Applied optics, 2016, 55(33): 9334-9340.
6. Huo S, Hu C, Li Y, et al. Optimization for liquid crystal variable retarder-based spectroscopic polarization measurements[J]. Applied optics, 2014, 53(30): 7081-7086.
7. 霍树春, 胡春光, 沈万福, 等. 基于单偏振器的液晶相位延迟器光电特性[J]. 红外与毫米波学报, 2016 (2016 年 01): 68-71, 77.
8. 霍树春, 胡春光, 沈万福, 等. 基于反射差分显微术的有机薄膜空间均一性研究 [J]. 红外与毫米波学报, 2017 (2017年 04): 237-240.
9. C Hu, S Huo, W Shen, et al. Reflectance difference microscopy for nanometer thickness microstructure measurements [J]. Journal of Microscopy, 2018, Vol. 270, Issue 3, P318-325.
申请中国专利15项,授权3项。
1. 霍树春,胡春光,王浩,沈万福,姚程源,曲正,武飞宇,胡晓东,胡小唐,用于纳米厚度SiO2厚度的差分反射光谱测量方法,中国发明专利,2019113517057,授权;
2. 霍树春,胡春光,王浩,胡晓东,胡小唐,测量纳米薄膜厚度的显微式差分反射光谱测量系统及方法,中国发明专利,2018115537730,授权;
人才队伍