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  • 姓名： 霍树春
  • 性别： 男
  • 职称： 副研究员
  • 职务： 
  • 学历： 博士
  • 电话： 
  • 传真： 
  • 电子邮件： huoshuchun@ime.ac.cn
  • 所属部门： 光电技术研发中心
  • 通讯地址： 北京市朝阳区北土城西路3号

    简　　历：

  • 教育背景 

    2012.09-2017.01 天津大学仪器科学与技术专业，博士 

    2014.12-2015.11 奥地利林茨大学实验物理研究所，联合培养博士生
     
    工作简历

    2021.05-今 中国科学院微电子研究所，副研究员 

    2018.05-2021.04 天津大学精密仪器与光电子工程学院，博士后 

    2017.06-2018.4  成都工业学院机械工程学院，讲师 

    2011.08-2012.02 北航电磁兼容技术研究所，软件工程师

    社会任职：

  • 1. 中国计量测试学会计量仪器专业委员会
    2. 中国光学学会光电专委会委员
    3. 原子级制造论坛青年工作委员会委员

    研究方向：

  •  集成电路光学测量技术及精密仪器

    承担科研项目情况：

  • 1.国家重点研发计划项目，课题“晶圆级自动厚度验证装置及键合晶圆测量应用”，课题负责人，2022.11-2025.10

    2.国家重点研发计划项目，“复杂微结构三维光学显微测量仪”，子课题负责人，2021.12-2024.11

    3.国家重点实验室开放课题，“深硅刻蚀结构几何参数光学无损测量方法研究”，课题负责人，2021.09-2023.09

    4.国家重点研发计划项目，“硅基MEMS高深宽比结构多模式光学测量技术”，子任务/骨干，2020.01-2022.12

    5.国家重点研发计划项目，“硅通孔三维集成质量与可靠性评价关键技术研究”，子任务，2024.03-2027.02

    6.国家重点研发计划项目，课题“批量测试与调理技术”，子任务，2022.12-2025.11

    7.国家重点研发计划项目，课题“片上纳米几何量与电学量计量技术应用示范”，子任务，2022.10-2025.11


    代表论著：

  •  1) S.C.Huo, H. Wang, C.G. Hu*, C.Y. Yao, W.F. Shen, X.D. Hu, X.T. Hu. Measuring the Multilayer Silicon based Microstructure Using Differential Reflectance Spectroscopy. Optics Express, 2021, 29(3): 3114-3122.

    2) Chunguang Hu, Hao Wang, Yongtao Shen, Shuchun Huo*, Wanfu Shen, Xiaodong Hu and Xiaotang Hu, 

    Imaging layer thickness of large-area graphene using reference-aided optical differential reflection technique. 

    Optics Letters, 2020, Vol. 45 No. 15

    3) Chunguang Hu, Hao Wang, Shuchun Huo*, Wanfu Shen, and Xiaotang Hu, Rapid reflectance difference 

    microscopy based on liquid crystal variable retarder, Journal of Vacuum Science & Technology B, 37, 050604 

    (2019)

    4) C.G. Hu*, S.C. Huo, W.F. Shen, Y.N. Li, X.T. Hu. Reflectance difference microscopy for nanometre 

    thickness microstructure measurements. Journal of Microscopy, 2018, 270(3): 318-325.

    5) S.C. Huo, C.G. Hu*, W.F. Shen, Y.N. Li, L.D. Sun, X.T. Hu. Normal-incidence reflectance difference 

    spectroscopy based on a liquid crystal variable retarder. Appl. Opt., 2016, 55(33): 9334-9340.

    6) Chengyuan Yao, Shuchun Huo*, Wanfu Shen, Zhaoyang Sun, Xiaodong Hu, Xiaotang Hu, Chunguang Hu, Assessing the quality of polished brittle optical crystal using quasi-Brewster angle technique, Precision Engineering, 2021, Vol. 72, pp 184-191.

    专利申请：

  • 1.霍树春，胡春光，王浩，胡晓东，胡小唐，测量纳米薄膜厚度的显微式差分反射光谱测量系统及方法，发明

    专利，CN111336932B

    2.霍树春，胡春光，王浩，沈万福，姚程源，曲正，武飞宇，胡晓东，胡小唐，用于纳米厚度SiO2厚度的差分反射光谱测量方法，发明专利，CN111076668B

    获奖及荣誉：

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