| 专利名称: | 在衬底上制备空气桥的方法 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 02141340.1 |
| 申请日期: | 2002-07-05 |
| 专利号: | CN1466189 |
| 第一发明人: | 刘训春 李无暇 王润海 罗明雄 |
| 其它发明人: | |
| 国外申请日期: | |
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| 专利证书号: | |
| 专利摘要: | 一种在衬底上制备空气桥的方法，包括如下步骤：(1)在衬底上涂两层光刻胶；(2)在上层光刻胶上曝光、显影，获得桥模图形；(3)对下层刻蚀和氯苯浸泡，将上层的桥模图形转移到下层；(4)泛曝光、显影去除剩余的上层胶；(5)在已形成桥模的衬底上，涂薄聚甲基丙烯酸甲酯-顺丁烯二酐光刻胶光刻胶和厚正胶；经曝光、反转显影使普通正性光刻胶形成布线图形，等离子刻蚀去除布线图形窗口内的聚甲基丙烯酸甲酯-顺丁烯二酐光刻胶；(6)蒸发金属、剥离后形成空气桥布线金属。 |
| 其它备注: | |
科研产出