| 专利名称: | X射线光刻与光学光刻混合制作T型栅的方法 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 03141108.8 |
| 申请日期: | 2003-06-09 |
| 专利号: | CN1567087 |
| 第一发明人: | 谢常青 叶甜春 陈大鹏 李兵 |
| 其它发明人: | |
| 国外申请日期: | |
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| 实施情况: | |
| 专利证书号: | |
| 专利摘要: | 一种X射线光刻与光学光刻混合制作T型栅的方法，其工艺步骤如下：1.在半导体基片上涂上底层X射线光刻胶；2.X射线光刻方法曝光底层X射线光刻胶；3.涂上顶层光学光刻胶；4.光学光刻方法曝光顶层光学光刻胶；5.显影顶层光学光刻胶获得宽栅图形；6.显影底层X射线光刻胶获得栅槽图形；7.蒸发、剥离栅金属，完成T型栅制作。 |
| 其它备注: | |
科研产出