| 专利名称: | 一种Ｘ射线图形掩模 |
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| 申请号: | 93244852.6 |
| 申请日期: | 1993-11-22 |
| 专利号: | CN2177291 |
| 第一发明人: | 刘训春 陈梦真 叶甜春 钱鹤 王润梅 王玉玲 孙宝银 曹振亚 欧文 张学 |
| 其它发明人: | |
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| 专利授权日期: | |
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| 专利摘要: | 本实用新型公开了一种用于半导体器件与集成电路工艺的Ｘ射线图形掩模，它在掩模线条的侧边设有能够透过Ｘ射线的属侧向支撑体，基片可为氮化硅片，金属图形可以是金属线条形成的图形。这样的结构能够提高掩模的合格率、可靠性以及使用寿命。 |
| 其它备注: | |
科研产出