| 专利名称: | 一种基于模版制备各向异性有机场效应管的方法 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 200610012053.0 |
| 申请日期: | 2006-05-31 |
| 专利号: | CN101083303 |
| 第一发明人: | 商立伟 涂德钰 王丛舜 刘 明 |
| 其它发明人: | |
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| 专利授权日期: | |
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| 实施情况: | |
| 专利证书号: | |
| 专利摘要: | 本发明属于有机半导体学中的微细加工领域，特别是一种基于模版 制备各向异性有机场效应管的方法。其工艺步骤如下：1.在导电基底上 生长绝缘介质薄膜；2.在绝缘介质薄膜表面上旋涂抗蚀剂，光刻得到有 取向的图形；3.利用抗蚀剂掩蔽刻蚀绝缘介质薄膜；4.沉积生长有机 半导体薄膜；5.通过镂空的掩模版沉积源漏金属电极，完成各向异性有 机场效应管的制备。 |
| 其它备注: | |
科研产出