专利名称: | 一种基于SOI量子线的单电子晶体管及其制作方法 |
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申请号: | 200710064857.X |
申请日期: | 2007-03-28 |
专利号: | CN101276836 |
第一发明人: | 王 琴 李维龙 贾 锐 刘 明 叶甜春 |
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专利摘要: | 一种基于SOI量子线的单电子晶体管及其制作方法。本发明的主要特 征是在SOI衬底上制备量子线,利用金属栅对量子线的势垒受限形成隧道 结和库仑岛,从而降低了微纳加工的难度,实现隧道结有效尺寸可调的单 电子晶体管。其主要工艺步骤如下:(a)离子注入及快速退火;(b)电子束光 刻,形成量子线图形;(c)干法刻蚀,将图形转移至SOI的顶层硅上;(d) 光刻;(e)蒸发金属,剥离,合金;(f)二次电子束套刻,形成栅图形;(g) 蒸发栅金属;(h)剥离,形成金属栅;采用本发明方法制备的基于SOI量子 线的单电子晶体管具有工艺难度低,可实行性高,易于大规模集成的优点。 |
其它备注: | |
科研产出