专利名称: 一种基于SOI量子线的单电子晶体管及其制作方法
专利类别:
申请号: 200710064857.X
申请日期: 2007-03-28
专利号: CN101276836
第一发明人: 王 琴 李维龙 贾 锐 刘 明 叶甜春
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:
专利证书号:
专利摘要: 一种基于SOI量子线的单电子晶体管及其制作方法。本发明的主要特
征是在SOI衬底上制备量子线,利用金属栅对量子线的势垒受限形成隧道
结和库仑岛,从而降低了微纳加工的难度,实现隧道结有效尺寸可调的单
电子晶体管。其主要工艺步骤如下:(a)离子注入及快速退火;(b)电子束光
刻,形成量子线图形;(c)干法刻蚀,将图形转移至SOI的顶层硅上;(d)
光刻;(e)蒸发金属,剥离,合金;(f)二次电子束套刻,形成栅图形;(g)
蒸发栅金属;(h)剥离,形成金属栅;采用本发明方法制备的基于SOI量子
线的单电子晶体管具有工艺难度低,可实行性高,易于大规模集成的优点。
其它备注: