专利名称: 温室型非制冷红外焦平面阵列
专利类别:
申请号: 200810223350.9
申请日期: 2008-09-26
专利号: CN101398330
第一发明人: 董立军
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
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实施情况:
专利证书号:
专利摘要: 本发明公开了一种温室型非制冷红外焦平面阵列,包括密闭的封装壳
体,所述封装壳体一面为锗玻璃窗口,另一面为光学玻璃窗口,所述封装
壳体内充满高红外吸收率的温室气体或液体,封装壳体中间自上而下贯穿
设置有一个焦平面阵列成像单元,焦平面阵列成像单元完全被气体或液体
包围,所述焦平面阵列成像单元由双材料梁和反光板构成,双材料梁靠近
光学玻璃窗口的一侧安装有一个反光板,所述双材料梁为梳齿状阵列,由
多个均匀间隔分布的梳齿条构成,每个梳齿条均由热膨胀系数相差很大的
两种材料构成。它用气体或者液体作为红外辐射的吸收材料,是一个覆盖
全部大气窗口的新型红外焦平面阵列,同时具有双材料梁,具有成本低的
优点。
其它备注: