| 专利名称: | 在碱性腐蚀液中保护易腐蚀MEMS器件的方法 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 200710176932.1 |
| 申请日期: | 2007-11-07 |
| 专利号: | CN101428753 |
| 第一发明人: | 杨 楷 陈大鹏 景玉鹏 焦斌斌 李志刚 |
| 其它发明人: | |
| 国外申请日期: | |
| 国外申请方式: | |
| 专利授权日期: | |
| 缴费情况: | |
| 实施情况: | |
| 专利证书号: | |
| 专利摘要: | 本发明涉及MEMS设计及加工技术领域，公开了一种在碱性腐蚀液 中保护易腐蚀MEMS器件的方法，包括：将封蜡溶于有机溶剂中，制备 封蜡的饱和溶液；对待腐蚀MEMS器件正面需要保护的区域进行滴液， 将制备的封蜡饱和溶液滴到待腐蚀MEMS器件正面需要保护的区域；对 所述经过滴液处理的待腐蚀MEMS器件进行烘干；将烘干后的待腐蚀 MEMS器件放入碱性腐蚀液中进行腐蚀；腐蚀结束后，去除MEMS器件 上的封蜡。利用本发明，使得正面器件的精细结构在强碱腐蚀过程中不受 侵蚀，并保证了在涂敷过程中硅片上的精细结构不受损伤，有效的保护了 MEMS器件，解决了MEMS器件制造工艺中的关键环节，为MEMS的发 展带来更广阔的应用前景。 |
| 其它备注: | |
科研产出