| 专利名称: | 绿色二氧化碳超流体半导体清洗设备 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 200710178774.3 |
| 申请日期: | 2007-12-05 |
| 专利号: | CN101452820 |
| 第一发明人: | 高超群 刘茂哲 罗小光 李全宝 景玉鹏 |
| 其它发明人: | |
| 国外申请日期: | |
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| 专利摘要: | 本发明公开了一种绿色二氧化碳超流体半导体清洗设备，用于半 导体芯片的无水清洗。该设备主要包括带温度和压力控制的主工作腔 (进行超流体清洗和超临界干燥)、分离二氧化碳和清洗废液的分离 腔、存放增强清洗效果的清洗剂及助溶剂的暂存腔和对二氧化碳进行 压缩、散热和存储的二氧化碳循环控制系统等几大部分。各部分通过 带阀门的管道进行连接。在少量有机溶剂的配合下，以无表面张力的 二氧化碳超流体为清洗媒体和漂洗液，深入微小孔隙获得良好的清洗 效果。利用本发明提供的清洗设备，避免了纯水的大量消耗和化学药 剂带来的污染，解决了传统工艺中由于表面张力造成的结构变形和颗 粒吸附等问题，而且二氧化碳循环使用减少了温室气体的大量排放。 |
| 其它备注: | |
科研产出