专利名称: GaAs基E/D PHEMT单片集成微波开关及其制作方法
专利类别:
申请号: 200810115564.4
申请日期: 2008-06-25
专利号: CN101615708
第一发明人: 黎 明 张海英 付晓君 徐静波
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
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实施情况:
专利证书号:
专利摘要: 本发明公开一种GaAs基E/D PHEMT单片集成微波开关及其制作方
法。该单片集成微波开关由基于全耗尽型的GaAs PHEMT单刀双掷开关
和基于DCFL的反相器构成,该单刀双掷开关和反相器单片集成,单刀双
掷开关的控制信号端与反相器的输入端和输出端连接,且该单片集成微波
开关采用0V和-3V分别作为高低电平,反相器的VDD直流端接0V,原
接地端接-3V。本发明成功的将全耗尽型微波开关与反相器集成于同一芯
片内,实现了逻辑电路与开关电路的集成,整个电路只需要1位控制信号,
有效的减少了开关电路的控制端口数目,节省了芯片面积,为将来采用
E/D HEMT技术实现更大规模、更复杂电路集成奠定了良好基础。
其它备注: