| 专利名称: | 一种纳米电子器件及其制作方法 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 200910077523.5 |
| 申请日期: | 2009-01-21 |
| 专利号: | CN101783364A |
| 第一发明人: | 龙世兵 刘明 李维龙 贾锐 |
| 其它发明人: | |
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| 专利摘要: | 本发明公开了一种用纳米晶材料作为库仑岛的纳米电子器件及其制作方法。在一对纳米电极之间生长纳米晶材料，纳米电极作为器件的源和漏，纳米晶作为库仑岛，纳米电极下的绝缘介质作为栅介质，绝缘介质下的硅衬底作为栅电极。这种纳米电子器件及其制造方法具有简单、稳定可靠、工艺步骤少、与传统CMOS工艺兼容的优点。 |
| 其它备注: | |
科研产出