| 专利名称: | 用电子束大小电流混合一次曝光制备X射线掩模的方法 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 200510008009.8 |
| 申请日期: | 2005-02-07 |
| 专利号: | CN1818789 |
| 第一发明人: | 刘 明 叶甜春 谢常青 张建宏 |
| 其它发明人: | |
| 国外申请日期: | |
| 国外申请方式: | |
| 专利授权日期: | |
| 缴费情况: | |
| 实施情况: | |
| 专利证书号: | |
| 专利摘要: | 本发明提供一种采用电子束大小电流混合一次曝光制备X射线掩模 的方法。该方法，将电子束曝光版图剖分为二部分，即精细图形和其它 的大图形；将剖分后的大小版图图形按不同条件进行转换；用二个不同 的路径编辑曝光文件；对剖分后的大小版图图形分别赋予不同的工作参 数(EOS)表；对剖分后的大小版图图形分别赋予不同的曝光剂量和曝 光电流；将二次曝光的初始位置和剖分后的大小版图图形的版架位置设 定为同一值。本发明在使用电子束制备X射线掩模时，在保证电子束的 高分辨率时也大大提高了其效率。 |
| 其它备注: | |
科研产出