| 专利名称: | 基于自组装技术的交叉阵列结构有机器件制备方法 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 200510109338.1 |
| 申请日期: | 2005-10-13 |
| 专利号: | CN1949475 |
| 第一发明人: | 王丛舜 胡文平 涂德钰 姬濯宇 刘 明 |
| 其它发明人: | |
| 国外申请日期: | |
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| 专利证书号: | |
| 专利摘要: | 一种交叉线阵列结构有机分子器件的制备方法，其工艺步骤如下： 1.在基片表面上淀积绝缘薄膜；2.在绝缘薄膜表面上旋涂抗蚀剂，光 刻得到下电极图形；3.蒸发、剥离金属得到交叉线下电极；4.旋涂抗 蚀剂，光刻得到与下电极交叉的上电极图形；5.蒸发、剥离金属得到上 电极；6.液相法自组织生长有机分子材料；7.干法刻蚀多余的有机分 子材料，完成交叉线有机分子器件的制备。 |
| 其它备注: | |
科研产出