| 专利名称: | 纳米压印和光学光刻匹配混合的声表面波器件制备方法 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 200510126232.2 |
| 申请日期: | 2005-11-30 |
| 专利号: | CN1979340 |
| 第一发明人: | 王丛舜 牛洁斌 涂德钰 谢常青 陈宝钦 刘 明 |
| 其它发明人: | |
| 国外申请日期: | |
| 国外申请方式: | |
| 专利授权日期: | |
| 缴费情况: | |
| 实施情况: | |
| 专利证书号: | |
| 专利摘要: | 一种采用纳米压印和光学光刻匹配混合的声表面波器件制备方法，其 工艺步骤如下：1.在压电基片上旋涂压印胶；2. 器件叉指图形和对准标记的压模并对其表面进行防粘连处理；3.将压模 压入压印胶中，通过加热、加压或紫外光辐照固化等压印方式得到叉指 和对准标记的胶图形；4.分离压模和基片；5.利用氧等离子干法刻蚀 残胶，直到露出基片；6.溅射或蒸发电极材料；7.剥离得到叉指电极 和对准标记图形；8.在基片上旋涂光刻胶；9.对声表面波器件的其余 图形进行套准光刻；10.溅射或蒸发电极材料；11.剥离得到图形，完 成声表面波器件的制备。 |
| 其它备注: | |
科研产出