| 专利名称: | 一种紫外固化纳米压印模版的制备方法 |
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| 申请号: | 200510130437.8 |
| 申请日期: | 2005-12-08 |
| 专利号: | CN1979341 |
| 第一发明人: | 涂德钰 王丛舜 刘 明 |
| 其它发明人: | |
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| 专利摘要: | 本发明属于微电子学与纳米电子学中的微纳加工领域，特别涉及一 种紫外固化纳米压印模版的制备。其工艺步骤如下：1.在透光基片上 淀积一层易于刻蚀的薄膜；2.旋涂抗蚀剂；3.淀积一层导电薄膜；4. 光刻、显影得到模版图形；5.以抗蚀剂做掩蔽刻蚀第一层薄膜材料，将 模版图形转移到薄膜上；6.去除残余抗蚀剂，完成紫外固化纳米压印模 版。 |
| 其它备注: | |
科研产出