| 专利名称: | 纳米压印光刻机 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 200420118110.X |
| 申请日期: | 2004-11-09 |
| 专利号: | CN2783376 |
| 第一发明人: | 康晓辉;范东升 |
| 其它发明人: | |
| 国外申请日期: | |
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| 专利摘要: | 本实用新型一种压印光刻机，涉及微纳加工技术领域，具体地说， 涉及用于纳米压印光刻的设备。该机主要由螺栓，上层板，中间板，传 动螺栓，传动导向杆，压块和底层板组成，用螺栓、螺母连接固定。本 设备结构新颖、简单，易于加工，并采用压块、导向杆和底层板分离的 结构设计，不仅实现了模具和硅片的自调平衡、达到很高的加工进度， 而且降低了底层板，中间板与传动导向杆之间的位置精度要求，降低了 制造成本。因此，本实用新型设备可用于纳米压印光刻的科学研究。 |
| 其它备注: | |
科研产出