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专利名称: 用电子束大小电流混合一次曝光制备X射线掩模的方法
专利类别: 发明
申请号: 200510008009.8
申请日期: 2005-02-07
专利号:
第一发明人: 刘明, 叶甜春, 谢常青, 张建宏
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:
专利证书号: ZL200510008009.8
专利摘要:
其它备注: 三室
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