一次掩膜光刻同时定义有机薄膜晶体管源漏栅电极的方法 --中国科学院微电子研究所

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专利名称:	一次掩膜光刻同时定义有机薄膜晶体管源漏栅电极的方法
专利类别:	发明
申请号:	200710177796.8
申请日期:	2007-11-21
专利号:
第一发明人:	甄丽娟, 商立伟, 刘兴华, 刘明
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:
专利证书号:	ZL200710177796.8
专利摘要:
其它备注:	三室